Lithographic apparatus and device manufacturing method

リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

Abstract

【課題】液浸リソグラフィ装置の1つ又は複数の表面における液浸液の望ましくない小滴の形成を減少させる、または小滴を除去する。 【解決手段】表面20には複数の電極21、22が設けられている。第一タイプの電極21が表面20上に形成されるか、それに対して露出し、したがって表面上の液浸液の小滴23が第一タイプの電極21に直接接触することができる。したがって、第一タイプの電極21は、小滴23の液浸液に電気的に接続することができる。 【選択図】図7
<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the formation of unwanted droplets or to remove unwanted droplets of immersion liquid on one or more surfaces of an immersion lithographic apparatus. <P>SOLUTION: The surface 20 is provided with a plurality of electrodes 21 and 22. Electrodes 21 of a first type are formed on or exposed to the surface 20 so that a droplet 23 of immersion liquid on the surface may be directly in contact with an electrode 21 of the first type. Accordingly, the electrode 21 of the first type may be electrically connected to the immersion liquid of the droplet 23. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

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