Lithographic apparatus and device manufacturing method



【課題】液浸リソグラフィ装置の1つ又は複数の表面における液浸液の望ましくない小滴の形成を減少させる、または小滴を除去する。 【解決手段】表面20には複数の電極21、22が設けられている。第一タイプの電極21が表面20上に形成されるか、それに対して露出し、したがって表面上の液浸液の小滴23が第一タイプの電極21に直接接触することができる。したがって、第一タイプの電極21は、小滴23の液浸液に電気的に接続することができる。 【選択図】図7
<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the formation of unwanted droplets or to remove unwanted droplets of immersion liquid on one or more surfaces of an immersion lithographic apparatus. <P>SOLUTION: The surface 20 is provided with a plurality of electrodes 21 and 22. Electrodes 21 of a first type are formed on or exposed to the surface 20 so that a droplet 23 of immersion liquid on the surface may be directly in contact with an electrode 21 of the first type. Accordingly, the electrode 21 of the first type may be electrically connected to the immersion liquid of the droplet 23. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT




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Patent Citations (18)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    JP-2004289127-AOctober 14, 2004Asml Netherlands Bv, エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップリソグラフィ装置およびデバイス製造方法
    JP-2005005713-AJanuary 06, 2005Asml Netherlands Bv, エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップLithography apparatus and method of manufacturing device
    JP-2005223342-AAugust 18, 2005Asml Netherlands Bv, Koninkl Philips Electronics Nv, エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ, コニンクリユケ フィリップス エレクトロニクス エヌ.ブイ.リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
    JP-2006024819-AJanuary 26, 2006Renesas Technology Corp, 株式会社ルネサステクノロジ液浸露光装置、及び電子デバイスの製造方法
    JP-2006060223-AMarch 02, 2006Asml Netherlands Bv, エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップリソグラフィ装置およびデバイス製造方法
    JP-2006196905-AJuly 27, 2006Asml Netherlands Bv, エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップリソグラフィ装置およびデバイス製造方法
    JP-2006269940-AOctober 05, 2006Canon Inc, キヤノン株式会社Exposure device and exposure method
    JP-2006523022-AOctober 05, 2006株式会社ニコン液浸リソグラフィ装置用電気浸透素子
    JP-2006523026-AOctober 05, 2006株式会社ニコン液浸リソグラフィ流体制御システム
    JP-2007194613-AAugust 02, 2007Asml Netherlands Bv, エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.リソグラフィ装置、デバイス製造方法および制御システム
    JP-2007227580-ASeptember 06, 2007Sony Corp, ソニー株式会社液浸型露光装置および液浸型露光方法
    JP-2007513518-AMay 24, 2007アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッドAdvanced Micro Devices Incorporated適応浸漬媒体を使用した浸漬リソグラフィプロセス
    JP-2008235620-AOctober 02, 2008Utsunomiya Univ, 国立大学法人宇都宮大学Liquid immersion lithography apparatus
    JP-2008530789-AAugust 07, 2008エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.液浸液、露光装置および露光方法
    JP-2009038301-AFebruary 19, 2009Canon Inc, キヤノン株式会社Exposure device and method for manufacturing device
    WO-2005057636-A1June 23, 2005Nikon CorporationSysteme de platine, appareil d'exposition et procede d'exposition
    WO-2006049134-A1May 11, 2006Nikon CorporationExposure apparatus and device producing method
    WO-2006084641-A2August 17, 2006Asml Netherlands B.V.Immersion liquid, exposure apparatus, and exposure process

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    Publication numberPublication dateAssigneeTitle